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昆山超聲波清洗器幾種常見的溫控方式和清洗方式

更新時間:2017-12-26      點擊次數(shù):1381
昆山超聲波清洗器一般會有定時或加熱功能,下面介紹昆山超聲波清洗器幾種常見的加熱配置:
1、數(shù)控面板加熱
一般實驗室用的數(shù)控超聲波清洗器,帶有加熱功能的機型,就是數(shù)控按鍵加熱。數(shù)控區(qū)顯示當前溫度,可以設定溫度值,當達到加熱值是自動停止加熱。此種加熱一般是用硅膠板加熱。
2、溫控儀加熱
分體超聲波清洗器根據(jù)使用情況有用溫控儀加熱,使用方法如下:按下加熱開關,溫控儀將顯示測量溫度與控制溫度。上面顯示的是測量溫度,下面顯示的是控制溫度,當測量溫度低于控制溫度時,溫控儀上out燈亮,加熱指示燈亮,設備處于加熱狀態(tài);當測量溫度高于控制溫度時,溫控儀上out燈滅,加熱指示燈熄滅,設備停止加熱??刂茰囟仍O置方法:按撥碼鍵設定控制溫度,控制溫度為58度。此種一般是用加熱管加熱。
3、機械溫控
普通臺式超聲波清洗器一般用機械溫控,也就是旋鈕調(diào)節(jié)溫度,溫度調(diào)節(jié)范圍為常溫-80度。
昆山超聲波清洗器常見的幾種清洗方式:
1、溶劑清洗
比較傳統(tǒng)的方法,其優(yōu)點是清洗速度快,效率比較高,溶劑本身可以不斷蒸餾再生,循環(huán)使用;但缺點也比較明顯,由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,均為封閉車間,溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響,尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
2、半水基清洗
近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點,可以做到無毒,氣味輕微,廢液可排入污水處理系統(tǒng);設備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑zui為突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運行成本。 它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢,并且必須要進行漂洗。
3、鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時,還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式,分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。
4、鍍膜后清洗
一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗,其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀,以滿足無法一次加工成型的需求,或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求zui為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求,其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。
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